温控系统-温度均一化解决方案
升温均衡、精度更高、控制效果更佳
温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制,从而避免温度的超调和波动,可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。
行业背景
温度作为生产工艺中的重要指标,若升温速度不一致,将直接导致温度出现超调和波动,从而影响到产品的加工工艺,导致良品率下降。
温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制,从而避免温度的超调和波动,可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。
系统原理
温度均一化控制技术通过对多个温区的升温速度进行控制,有效抑制相邻通道间的相互干扰,同时能够保证整个加热过程中,各温区间的温差保持不变,实现对被控对象的均匀加热,达到提高产品的加工质量、降低能耗的效果。
控制方案
温控系统一温度均一化解决方案共分为两部分,包括有均一化解耦与优化部分(工艺层)、PID控制部分(控制层)。PID控制部分轻松保证加工速度;均一化解耦与优化部分可确保多温区耦合作用下,依旧实现包含过渡响应在内的温区耦合均一性。
整个解决方案采取模块化编程,将均一化工艺层与PID控制层进行模块化,可将工艺层灵活搭配信捷PID指令,满足不同场景的客户需求;整个过程调试时间短,仅需简单设定即可实现均一化参数,轻松解决加热不均匀问题,实现每个温区升温速度的统一。
方案优势
升温均衡
升温均衡,对多个温区进行同步控制,实现不同温区的均匀加热
抑制温差
抑制温差,不同温区之间的差值是传统PID方案的1/5
低超调量
低超调量,不同温区同时到达温度目标值,超调量更小;
低稳态误差
低稳态误差,在恒温阶段的温度波动是传统PID方案的1/5,控制效果更佳
高精度温控
高精度温控,采集精度:0.3%,采集分辨率:0.01℃
调试更便捷
易调试,采用模块化封装的指令,配合专用调试软件,调试更加便捷